Intel首次对外开放亚利桑那州Fab晶圆厂 介绍先进EUV光刻技术

来源: 小世评选

2023年8月,作为中国媒体的代表,文Q有幸参观了Intel位于马来西亚的封测工厂,并提前了解到全新酷睿Ultra(Meteor Lake)处理器的架构设计及技术特性。紧他又前往美国亚利桑那州,首次亲身体验Intel的Fab晶圆厂,特别是刚刚投入生产的Fab 52,这一参观也弥补了他在疫情期间未能前往以色列芯片制造基地的遗憾。

Intel的亚利桑那州晶圆厂自1979年起步,经过数十年的发展,已经成为全球半导体制造的重要基地之一。尽管亚利桑那州的气候条件相对严酷,干旱而少雨,但其地震、飓风和野火等自然灾害发生率极低,为晶圆厂的稳定运行提供了理想环境。该州拥有浓厚的科技氛围和众多的高素质人才,吸引了包括Intel和台积电在内的多个半导体巨头在此落户。

参观中,文Q深入了解了EUV(极紫外光)光刻技术,这一技术被认为是当前半导体制造的“游戏规则改变者”。EUV光刻机通过利用波长为13.5纳米的极紫外光,能够在晶圆上精确地刻画出更小、更复杂的电路结构。这一技术使得Intel能够生产出更高性能和更低功耗的处理器,进而满足日益增长的计算需求。

Intel目前在亚利桑那州的Fab设施包括多个晶圆厂,每个厂以“Fab”为开头,后接数字编号。这一命名方式已成为Intel的传统,并在全球范围内得以延续。其中,Fab 52是最新的添加,代表了Intel在IDM 2.0战略下的更大规模投资。该项目的总投资额达到320亿美元,旨在进一步扩大产能,提升生产效率。

在经济和环境压力对半导体行业的日益加大背景下,Intel积极投资于可持续发展。尤其是在水资源短缺的亚利桑那州,Intel在水处理和回收利用方面采取了多项措施。工厂内设有占地4.86万平方米的水处理设施,特别是奥科蒂约盐水还原设施(OBRF),可有效去除水中的盐分,每日处理回收的水资源经过进一步净化后,最终成为高纯度水源,用于生产所需。

令人欣喜的是,Intel在亚利桑那州实现了“水资源正产出”(water-positive),截至2023年已为当地恢复的水资源相当可观,显示出企业对环境保护的承诺与努力。

参观结束后,文Q对Intel在亚利桑那州的发展历史和其持续创新表示赞赏。晶圆厂的开放不仅向公众展示了Intel在技术与环保方面的努力,也为半导体行业的未来发展提供了启示。同时,也让人对未来的科技进步充满期待,尤其是在处理器技术日渐成熟的今天,如何更好地满足不断增长的市场需求,将是Intel继续前行的重要使命。

Intel此次亚利桑那州Fab晶圆厂的开放,不仅让公众更深入地了解半导体行业的运作模式和技术发展,同时也彰显了Intel在全球半导体制造领域扮演的重要角色。在全球科技竞争日益激烈的时代,Intel通过不断的技术创新和可持续发展策略,必将进一步巩固其市场地位,为未来的科技进步贡献更多力量。

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